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  • Orion III/Phantom III系統
Trion創建于1989年,是一家等離子刻蝕與沉積系統制造商
Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產品在業內以系統占地面積小、成本低而著稱,且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。 從整套的批量生產用設備,到簡單的實驗室研發用系統,盡在Trion。

Phantom III反應離子刻蝕系統\

可適用于單個基片、碎片或帶承片盤的基片300mm尺寸,為實驗室和試制線生產提供先進的等離子刻蝕能力。
系統有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕氮化物、氧化物以及任何需要氟基化學刻蝕的薄膜或基片(如碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢以及鎢鈦)。該設備還可以用于去除光刻膠和有機材料。可選配靜電吸盤(E-chuck),以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。
該工具可選配一個電感耦合等離子(ICP)源。ICP使得用戶可以創建高密度等離子,從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能
通過打開室蓋,直接將基片裝入工藝室。



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