跑得快

首頁 > 產品中心 > Trion等離子沉積,刻蝕
  • Titan系統
Trion創建于1989年,是一家等離子刻蝕與沉積系統制造商
Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產品在業內以系統占地面積小、成本低而著稱,且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。 從整套的批量生產用設備,到簡單的實驗室研發用系統,盡在Trion。
\
Titan刻蝕/PECVD
Titan是一套用于半導體生產的十分緊湊、全自動化、帶預真空室的等離子系統。
它具有反應離子刻蝕(RIE)配置、高密度電感耦合等離子沉積(HDICP)或等離子增強型化學汽相沉積(PECVD)配置。可對單個基片或帶承片盤的基片(3”-300mm尺寸)進行高級處理。它還具有多尺寸批處理功能。價格適宜且占地面積小。

刻蝕應用:
砷化鎵、砷化鋁鎵、氮化鎵、磷化銦、鋁、硅化物、鉻以及其他要求腐蝕性和非腐蝕性化學刻蝕的材料。

沉積應用:
二氧化硅、氮化硅、氮氧化物和其他各種材料。



文件下載
百人三公 太阳城sunbet申博 真人葡京网 天娱彩票开奖 188体育官方网址