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  • Gemimi/Apollo去膠系統
Trion創建于1989年,是一家等離子刻蝕與沉積系統制造商
Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。 產品在業內以系統占地面積小、成本低而著稱,且設備及工藝的可靠性和穩定性久經考驗。 從整套的批量生產用設備,到簡單的實驗室研發用系統,盡在Trion。

Gemini,Apollo去膠機
新式去膠系統的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通過兩套價格低廉、緊湊的多功能系統使這一關鍵問題得到解決:Gemini和Apollo。
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利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率, 可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求, 每套系統可以結合SST-Lightning微波源 (既可靠又沒有任何常見的微波調諧問題)或ICP技術。

刻蝕速率高達6微米/分
—吞吐量高
等離子損傷低
自動匹配網絡
適用于100mm到300mm基片
設備占地面積小
價格具競爭性



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